行业挑战
超纯水(UPW)生产的一致性对微电子制造至关重要，并且有助于保护产品质量。除基本的超纯水监测以外，在如何对偏离趋势的结果迅速做出反应，并进行有效的故障排查和过程控制方面，微电子工厂也面临着挑战。其他关注领域包括，确保化学品纯度以改善工艺性能和批量生产，以及监测废水和回用水。
微电子制造商在生产中会遇到各种有机污染物，并经历各种挑战，包括：
给水和高纯工艺化学品中的低 ppm 级浓度
终抛光前的 ppt 级浓度
回用水和废水应用中复杂的样品基质
监测硅胶等有害颗粒物的关键需求
解决方案
凭借 Sievers 总有机碳(TOC)分析仪和超纯水(UPW)硼分析仪，苏伊士能够提供适合微电子制造工艺每一个步骤的分析解决方案。鉴于其宽广的分析范围和应用的多功能性，Sievers TOC分析仪可用于超纯水、工艺化学品纯度、回用水和废水处理监测。由于在二氧化硅之前，硼先从树脂床中泄漏出来，因此 Sievers 超纯水硼分析仪可通过检测硼浓度升高，实现二氧化硅的控制和树脂床的管理。
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