Q150TS ,高真空镀膜仪价格
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Q150TS ,高真空镀膜仪价格 技术指标:
工作腔室:150mm内径 x 127mm高
触摸屏全图像用户界面
样品台:标配旋转台
真空系统:
涡轮分子泵:带有空气冷却的涡轮分子泵
旋转机械泵:双级旋转机械泵
溅射电流:0-150mA;可预设膜厚(需FTM选项)或使用内置定时器
溅射时间:zui长60分钟
碳蒸发:稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
金属蒸发/光阑清洁头:用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。
尺寸和重量:仪器机箱:585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)
仪器总重量:33.4Kg
Q150TS ,高真空镀膜仪价格 概述:
金属溅射或碳蒸发或两者兼备:一体化设计,节约空间
精细颗粒溅射:高分辨率场发射扫描电镜(FE-SEM)制样的精细镀膜应用
涡轮分子泵高真空系统:允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜,大大拓宽了可溅射靶材范围,既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用,也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台
全自动触摸屏控制:快速数据输入,简单操作
可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想
与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制
精细的厚度控制:使用膜厚监控选项
“智能”式系统识别:自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型
高真空碳蒸镀:对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想
蒸发电流波形控制
Drop-in落入式快换样品台(标配旋转台)
真空闭锁功能:可让工作腔室处于真空状态,改善后续真空效果,或在真空条件下保存样品
镀制厚膜能力:一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟(材料科研领域的应用)
人体工程学设计的整体成型机壳:易维护和易拆装
带有本地FTP服务器连接的以太网端口:简单的程序更新
设有功率因素补偿,有效利用电能,降低运行成本
符合当前电器法规(CE认证)。
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