1200℃单温区管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜...

1200℃单温区管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜...

Φ100-1200℃管式炉AFD1200-100技术性能产品型号:AFD1200-100温度分类:1200℃工作温度:1100℃炉管尺寸:外径100mm...

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Φ80-1200℃管式炉AFD1200-80技术性能产品型号:AFD1200-80温度分类:1200℃工作温度:1100℃炉管尺寸:外径80mm*管长7...

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Φ60-1200℃管式炉AFD1200-60加热区域：外径φ40*加热区L300工作温度：300℃高温度：1200℃大真空度：-0.1Mpa密封方式：3...

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Φ40-1200℃管式炉AFD1200-40加热区域：外径φ40*加热区L300工作温度：300℃高温度：1200℃大真空度：-0.1Mpa密封方式：3...

Φ40-1200℃管式炉AFD1200-40加热区域：外径φ40*加热区L300工作温度：300℃高温度：1200℃大真空度：-0.1Mpa密封方式：3...

1200℃管式炉主要运用于冶金、玻璃、热处理、锂电正负材料、新能源、磨具等行业，也可用于气氛环境下的热处理，也可用于组成CVD系统，进行相关的镀膜试验生产。

1200℃管式炉主要运用于冶金、玻璃、热处理、锂电正负材料、新能源、磨具等行业，也可用于气氛环境下的热处理，也可用于组成CVD系统，进行相关的镀膜试验生产。