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多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。
薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等领域的研发以及成产当中,这些技术包括:等离子体增强化学气相沉积反应器(PECVD Re...
QuickPress活塞圆筒高压装置,体积小巧,操作简便,Z大压强4Gpa,Z高温度2200℃(精确度±2℃)
近年来直流型SPS加工技术(Direct Current Sintering)得到广泛的研究和推广,这种新型的SPS技术采用直流电源系统,简化了系统的复杂性,同...
近年来直流型SPS加工技术(Direct Current Sintering)得到广泛的研究和推广,这种新型的SPS技术采用直流电源系统,简化了系统的复杂性,同...
新一代高性能激光浮区法单晶炉可广泛用于凝聚态物理、化学、半导体、光学等多种学科领域相关单晶材料制备,尤其适合高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单...
新一代高性能激光浮区法单晶炉可广泛用于凝聚态物理、化学、半导体、光学等多种学科领域相关单晶材料制备,尤其适合高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单...
日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃,...
日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃,...
美国Thermal Technology热压炉是专为同时需要高温和高压的复杂实验或研究工作而开发设计的。主要应用于粉末材料的稠化、固体部件的扩散粘结、纤维复合材...
美国Thermal Technology热压炉是专为同时需要高温和高压的复杂实验或研究工作而开发设计的。主要应用于粉末材料的稠化、固体部件的扩散粘结、纤维复合材...
德国SciDre 高温高压光学浮区炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔大压力可达300Bar,甚至10-5mBar的高真空。适用于生长各种超...
德国SciDre 高温高压光学浮区炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔大压力可达300Bar,甚至10-5mBar的高真空。适用于生长各种超...
高压氧气氛退火炉温度可高达850°C,压力可达150个大气压。可用于高压晶体生长的料棒前处理,也可用于含氧晶体的高温退火处理。
高压氧气氛退火炉温度可高达850°C,压力可达150个大气压。可用于高压晶体生长的料棒前处理,也可用于含氧晶体的高温退火处理。
美国Thermal Technology自动热处理炉/陶瓷热处理炉,全自动、无人值守操作,Z高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率100℃/min,...
美国Thermal Technology自动热处理炉/陶瓷热处理炉,全自动、无人值守操作,Z高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率100℃/min,...
美国Thermal Technology电弧熔炼炉可以有效的应用于粉末熔炼、电弧铸造,金属、化合物材料的合成。BJ5电弧熔炼炉操作方便,可靠性高,通用性强,同时...
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美国Thermal Technology放电等离子烧结炉与传统烧结技术不同,是通过对样品通入电流来产生内热。只需几分钟即可达到热处理所需的高温环境,*的提高了实...
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