EM01-RD多入射角激光椭偏仪（研发）已升至EMPro31 型多入射角激光椭偏仪，主要升内容包括：
单次测量速度提高3倍;
新的仪器外形;
整体稳定性增强.
纳米薄膜研发领域的多入射角激光椭偏仪，用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项技术，仪器操作具有个性化定制功能，方便使用。
特点：
高精度、高稳定性
一体化集成设计
快速、高精度样品方位对准
多入射角度测量
快速反应过程的实时测量
操作简单
丰富的材料库及物理模型
强大的数据分析和管理
应用领域：
可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发
可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系，以及块状材料（基底）。
应用领域涉及纳米薄膜的几乎领域，如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。
性能保证：
高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度
.高精度的光学自准直望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合采样技术，保证了快速、稳定测量
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和相对厚度的测量
一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
软件方便纳米薄膜样品的测试和建模。
技术指标：
| 激光波长 | 632.8nm (He-Ne laser) |
| 膜厚测量重复性 | 0.01nm (对于Si基底上110nm的SiO2膜层) |
| 折射率精度 | 1x10-4 (对于Si基底上110nm的SiO2膜层) |
| 光学结构 | PSCA |
| 激光光束直径 | <1mm |
| 入射角度 | 40°-90°可选，步进5° |
| 样品方位调整 | 三维平移调节 二维俯仰调节 光学自准直系统对准 |
| 样品台尺寸 | Φ170mm |
| 单次测量时间 | 0.2s |
| 推荐测量范围 | 0-6000nm |
| 大外形尺寸(长x宽x高) | 887 x 332 x 552mm (入射角为70º时) |
| 仪器重量（净重） | 25Kg |
NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
样品池
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